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QED Q22-950F PC 磁流变抛光机

特征用途:

集成了磁流变抛光(MRF)和抛光盘抛光(Pad Polishing)加工技术,可实现大口径平面、球面、非 球面以及自由曲面制造及精密光学面型抛光修正。目 前是亚洲地区唯一一台1米 级口径埃米级精度的磁流变加工设备。

 

性能参数:

1、可加工材料:光学玻璃,熔石英,单晶材料(硅,锗,氟化 钙,蓝宝石等),陶瓷(碳化钨,碳化硅)等

2、可加工面形:平面,球面,共轴/离轴非球面,自由曲面等

3、可加工元件尺寸:圆形 Φ900mm;长方形/自由曲面 1100mm ×900mm

4、面形加工精度:(P-V)可达 λ/20

5、表面粗糙度:(RMS)可达 0.3 nm

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